某半导体器件集成ic创造厂在晶圆加工制作阶段中，安全使用硅烷开始硅外延性种子发芽，废气排放洗衣塔引起高浓硫酸浓度含硅废液操作。废液操作还具有pH震荡大（2-11）、硅含水量高的结构特征，过去的操作的办法易显示硅垢堵死疑问。 电镀废水含量及从何而来 生产废水主要是材质为： 分解性硅酸盐 ：SiO₂浓硫酸浓度达1000-1500mg/L 硫酸钠/氢硫化钠 ：洗條塔酸碱性洗條液杂质 颗粒状硅 ：微米级SiO₂电解质溶液 痕量砷 ：塑料原材料悬浮物带进 处里技艺的流程 转型升级用到"多级与+膜筛选+汽化晶粒"方法： 二级与 ：用CaO转换pH至4-5，导出硅酸钙沉淀出的，硅洗去率60%。 两级中合 ：加Na₂CO₃将pH发展至9，进1步沉淀出的多余硅，串并联用镁剂除砷。 反渗透膜系统化 ：0.02μm瓷质膜进行过滤纳米技术级硅小粒，通量平稳在80LMH。 MVR挥发器 ：浓缩液高盐污废水 ，心得出Na₂SO₄副软件，水循环率超90%。 后面使用效果 总硅从1500mg/L降下来5mg/L低于 砷含量的从0.8mg/L降到0.01mg/L 系统的无结渣进行已经超过2年 每一年利用浓盐酸钠晶状体约800吨