某半导体材料造成各个企业因晶圆家电清洗制作工艺生产含氨废液，出水量200吨/天。废液中除氧化还原电位外还含带氟化物和氢化物发生器巨资属，解决高难度大。本土废气环保标准让氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废污水的成分及原因 晶圆清理废水处理方法（主要是种类）：含高锰酸盐指数200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀制作工序电镀废水：含微量分析铜、镍等巨资属，pH值浮动大 CMP研磨抛光废污水：含硅粒子及高锰酸盐指数 治疗加工具体步骤 分为"普通机械乳浊液+膜离心分离+折点氯化"组合名字制作工艺： 预进行处理 ：污泥脱水CaCl2除氟，调节pH在7.5-8. 超滤膜体系 ：剔除0.01μm上颗粒剂物 反渗透装置到浓缩咖啡 ：将氯离子溶缩至1000mg/L以内 折点氯化 ：透彻把控好氯添加量，将氧化还原电位转变为离氮气 亚铁离子交易 ：安全保障天价属不合格 然后目的 氟化物维持＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属含量的少于在线检测限 水循环率达75% 污水造成量降低40%